高真空蒸發鍍膜儀可為薄膜應用提供理想涂層平臺

高真空蒸發鍍膜儀可以為薄膜應用和其他材料提供理想的涂層平臺,特別適用于場發射電子顯微鏡，透射電子顯微鏡和非晶碳熔覆/TEM網格支撐膜的樣品制備。是全自動程序控制，彩色觸摸屏界面，操作簡單，可以鍍金鉑和其他非氧化的貴金屬和其他易氧化膜材料的細顆粒。

　　高真空蒸發鍍膜儀是具有靈活性和模塊化可擴展性的多功能系統，可以適應不同的樣品制備。它可用于蒸發蒸籠和坩堝中的碳和金屬，以及可選的濺射附件蒸發。可以應用一系列行之有效的技術，包括碳涂層和TEM涂層，碳/金屬蒸發，使用雙源蒸發的低角度涂層和順序涂層，以及可選的濺射鍍膜附件可以應用于多種目標。其設計使其操作更容易實現。

　　1、使用微處理器控制器可以增強系統的靈活性，并且用戶可以輕松添加各種選項。但是，這些“默認"操作已經過優化，因此可以實現自動和手動操作。

　　2、*的抽屜式樣品裝載系統便于用戶放入各種樣品，而鉸接式頂蓋結構易于到達系統的其他區域。

　　3、渦輪分子泵安裝在系統外部，可以輕松安裝和更換高真空蒸發鍍膜儀。它的前真空是旋轉真空泵。整個泵送過程是*自動化的，在達到高真空后會蒸發。該儀器是臺式機，使用中的疏忽易于控制且易于損壞。