用VTC-200對銅箔的表面進行涂膜

實驗材料：厚度0.5㎜的銅箔、透明無機溶膠，實驗樣品如圖1所示

 圖1 實驗所用樣品圖

材料特性：銅箔質軟，容易褶皺；透明無機溶膠具有較大的粘性，不易甩開。

實驗目的：在銅箔表面涂覆一層厚度均勻的薄膜

實驗設備：VTC-200真空旋轉涂膜機，實驗所用設備如圖2所示：

VTC-200真空旋轉涂膜機

圖2 實驗所用設備圖

實驗所用設備特點：

      VTC-200真空旋轉涂膜機具有操作簡單、清理方便，體積小巧等優點，可利用高速旋轉的吸盤使粘滯系數較大的膠體、溶液等材料均勻地涂覆在樣件表面。該機使用真空吸盤將樣品固定在載樣盤上，具有兩段程序控制速度。第一段程序將設備轉速設置在較低的范圍內，在此轉數范圍內設置一定的注膠時間對樣品進行注膠；第二段程序注膠結束后涂膜機在最短時間內提升轉數至第二段所設置的轉數進行勻膠，在勻膠之前要對勻膠時間進行設置，當勻膠結束后機器自動停止運轉，涂膜的整個過程結束。可利用高速旋轉的吸盤使粘滯系數較大的膠體、溶液等材料均勻地涂覆在樣件表面。

設備參數：

  時間設置范圍：1s-600s；轉速：500rpm-6000rpm；

  可設置兩步涂膜程序，轉速穩定性為±1%，使涂膜更加均勻。

  SPD1轉速：500-6000 rpm有效；T1時間：1--600s有效。

  SPD2轉速：500-6000 rpm有效；T2時間：1--600s有效。

  載樣盤直徑：φ150mm，適用于尺寸6英寸、8英寸樣片及其它尺寸樣片的涂膜。

實驗過程：

      首先將5㎜厚的銅箔固定在1㎜厚的方形玻璃片上，然后將固定有銅箔的玻璃片放到吸盤中間的位置，放置玻璃片的時候盡量找好正中心，以免高速旋轉的過程中造成飛片。實驗過程中為了設備清理方便可在機器腔體內貼附一層塑料薄膜，試驗后可直接撕下。放置帶有銅箔的玻璃片的設備如圖3所示，

圖3 放置基片的設備圖

      放置好試樣后對設備進行程序設置，一段：SPD1  500rpm  T1  15s；二段：SPD1  1500rpm  T2  45s。設置好程序后將膠液擠出一定量到基片表面，然后蓋好上蓋，開啟設備對基片進行涂膜。在第一段速度時，涂膜機在較低轉速下進行勻膠，使膠液在基片表面鋪展開；在第二段速度時在較高旋轉速度下使基片表面的膠體迅速甩開，將多余的膠液甩倒基片外面，然后在基片表面形成具有一定厚度的薄膜。程序運行結束后，將樣品移下并自然干燥，干燥后的試樣如圖4所示；

圖4 干燥后的試樣圖

        用肉眼可見，薄膜在基片表面均勻分布，若要了解試樣的確切厚度，可使用TFMS-IV型高精度反射膜厚儀對試樣表面厚度進行測量。