鈣鈦礦鍍膜機主要由有機/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、樣品加熱控溫、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成。適用于制備金屬單質(zhì)薄膜、半導體薄膜、氧化物薄膜、有機薄膜等，可用于科研單位進行新材料、新工藝薄膜研究工作，也可用于大批量生產(chǎn)前的試驗工作，廣泛應用于有機、無機、鈣鈦礦薄膜太陽能電池、OLED等研究領域。

VTC-16-3HD ，3靶等離子濺射儀，是一款緊湊型的等離子薄膜濺射儀（直流普通型），控制面板采用觸摸屏模式，基片極限尺寸為2″，放置樣品的直徑為Ø50mm，加熱溫度達500℃。VTC-16-3HD 3靶等離子濺射儀可濺射金、銀、銅三種靶材，不可以濺射輕金屬和碳。本機采用旋轉(zhuǎn)式樣品臺，能夠依次在同一樣品上涂覆三層薄膜，適用于實驗室制備復膜的樣品。

GSL-1800X-ZF4蒸發(fā)鍍膜儀是一款高真空的蒸發(fā)鍍膜儀，特別適合蒸鍍對氧較敏感的金屬膜（如Ti、Al 、Au等）和小分子的有機物。本機設有4個蒸鍍加熱舟，每個加熱舟都可獨立進行蒸鍍，加熱舟上方有一個可旋轉(zhuǎn)擋板，當其中一個加熱舟進行蒸鍍時擋板將其它三個鎢舟遮住，以防蒸鍍材料之間相互污染。

MSK-USP-04C超聲噴霧熱解涂膜機通過一個加熱平臺來控制基底溫度，從而加速薄膜的干燥速度，加熱平臺的加熱溫度可高達500℃，在此溫度范圍內(nèi)基本可以滿足絕大多數(shù)實驗的需要。

靜電紡絲法是一種利用高壓電場的作用，將聚合物溶液或熔體紡絲成尺度在微米到納米級的細纖維的簡單而有效的加工工藝，即聚合物噴射靜電拉伸紡絲法。由于靜電紡絲制備的纖維比傳統(tǒng)的紡絲方法細得多，直徑一般在數(shù)十到上千納米，并且由電紡加工方法制備的互聯(lián)孔納米纖維材料具有極大的比表面積，同時纖維表面還會形成很多微小的二次結(jié)構(gòu)，因此有很強的吸附力以及良好的過濾性、阻隔性、粘合性和保溫性等。

VTC-100PAH真空旋轉(zhuǎn)涂膜機適用于半導體工藝、晶體、光盤、制版及表面涂覆等工藝，可用于強酸、強堿涂覆溶液。樣件固定采用真空吸附方式。使樣件取放自如，操作簡單。電機啟動快速度穩(wěn)定，可以保證涂層厚度的一致性和均勻性。VTC-100PAH真空旋轉(zhuǎn)涂膜機具有操作簡單、清理方便，體積小巧等優(yōu)點，主要應用于各大專院校、科研院所的實驗室中進行薄膜的生成過程。