鈣鈦礦鍍膜機(jī)主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測(cè)量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、樣品加熱控溫、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成。適用于制備金屬單質(zhì)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、氧化物薄膜、有機(jī)薄膜等，可用于科研單位進(jìn)行新材料、新工藝薄膜研究工作，也可用于大批量生產(chǎn)前的試驗(yàn)工作，廣泛應(yīng)用于有機(jī)、無(wú)機(jī)、鈣鈦礦薄膜太陽(yáng)能電池、OLED等研究領(lǐng)域。

VTC-16-3HD ，3靶等離子濺射儀，是一款緊湊型的等離子薄膜濺射儀（直流普通型），控制面板采用觸摸屏模式，基片極限尺寸為2″，放置樣品的直徑為Ø50mm，加熱溫度達(dá)500℃。VTC-16-3HD 3靶等離子濺射儀可濺射金、銀、銅三種靶材，不可以濺射輕金屬和碳。本機(jī)采用旋轉(zhuǎn)式樣品臺(tái)，能夠依次在同一樣品上涂覆三層薄膜，適用于實(shí)驗(yàn)室制備復(fù)膜的樣品。

GSL-1800X-ZF4蒸發(fā)鍍膜儀是一款高真空的蒸發(fā)鍍膜儀，特別適合蒸鍍對(duì)氧較敏感的金屬膜（如Ti、Al 、Au等）和小分子的有機(jī)物。本機(jī)設(shè)有4個(gè)蒸鍍加熱舟，每個(gè)加熱舟都可獨(dú)立進(jìn)行蒸鍍，加熱舟上方有一個(gè)可旋轉(zhuǎn)擋板，當(dāng)其中一個(gè)加熱舟進(jìn)行蒸鍍時(shí)擋板將其它三個(gè)鎢舟遮住，以防蒸鍍材料之間相互污染。

MSK-USP-04C超聲噴霧熱解涂膜機(jī)通過(guò)一個(gè)加熱平臺(tái)來(lái)控制基底溫度，從而加速薄膜的干燥速度，加熱平臺(tái)的加熱溫度可高達(dá)500℃，在此溫度范圍內(nèi)基本可以滿足絕大多數(shù)實(shí)驗(yàn)的需要。

靜電紡絲法是一種利用高壓電場(chǎng)的作用，將聚合物溶液或熔體紡絲成尺度在微米到納米級(jí)的細(xì)纖維的簡(jiǎn)單而有效的加工工藝，即聚合物噴射靜電拉伸紡絲法。由于靜電紡絲制備的纖維比傳統(tǒng)的紡絲方法細(xì)得多，直徑一般在數(shù)十到上千納米，并且由電紡加工方法制備的互聯(lián)孔納米纖維材料具有極大的比表面積，同時(shí)纖維表面還會(huì)形成很多微小的二次結(jié)構(gòu)，因此有很強(qiáng)的吸附力以及良好的過(guò)濾性、阻隔性、粘合性和保溫性等。

VTC-100PAH真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)適用于半導(dǎo)體工藝、晶體、光盤、制版及表面涂覆等工藝，可用于強(qiáng)酸、強(qiáng)堿涂覆溶液。樣件固定采用真空吸附方式。使樣件取放自如，操作簡(jiǎn)單。電機(jī)啟動(dòng)快速度穩(wěn)定，可以保證涂層厚度的一致性和均勻性。VTC-100PAH真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)具有操作簡(jiǎn)單、清理方便，體積小巧等優(yōu)點(diǎn)，主要應(yīng)用于各大專院校、科研院所的實(shí)驗(yàn)室中進(jìn)行薄膜的生成過(guò)程。