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產品分類CLASSIFICATION
詳細介紹
| 輸入電壓 | AC 208V ~ 240V, 50/60 Hz |
| 輸入功率 | < 2000W |
| 輸出功率 | 電壓：1600VDC;大電流：150mA |
| 腔體 | 石英腔體：167mm OD. x 152mm ID x 260mm Height |
| 2英寸帶水冷磁控濺射頭 | |
| 濺射頭和樣品臺 | 一個直徑50mm不銹鋼樣品臺,樣品臺可旋轉,旋轉速率0 - 5 RPM |
| 配有一手動操作的擋板，包含靶頭支撐架 | |
| 樣品臺和靶頭之間的距離可以調節，調節范圍：60-100mm | |
| 控制面板 | 6" PLC集成觸摸屏控制面板，可控制真空、電流、靶材位置和基片加熱溫度 |
| 雙極旋片真空泵VRD-8，KF25接口 | |
| 附件（可選） | KF25不銹鋼波紋管 |
| 10L/min 循環水冷機冷卻磁控靶頭 | |
| 氣氛 | 含一個控制進氣的針閥和一個放氣閥 |
| 靶材尺寸: 50 mm dia. x 0.50 -2 mm | |
| 靶材 | 適合濺射Au,Ag,Cu,Al,Cr,Ti,Sn,Ni等金屬，可選購 |
| 可選配件 | 膜厚監測儀 |
| 分子泵，可獲得高真空， >10E-5 torr | |
| 為獲得好的薄膜強度，建議鍍膜前用等離子清洗機對基片進行清洗。 | |
| 500度樣品加熱臺 | |
| 體積 | ( L 440mm×W 330mm × H 290mm |
| 凈重 | 20 kg ( not included pump ) |
| 質保和證書 | 一年質保，終生維護 |
| CE認證 | |
| 磁控濺射鍍膜知識 | 與客戶分享新的磁控濺射鍍膜技術，請點擊文章鏈接- Plasma Sputter Coating. |
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