VTC-600-2HD是一款帶有兩個(gè)靶頭的磁控濺射鍍膜儀，其中一個(gè)靶頭采用直流（DC）濺射，可濺射金屬靶材制備金屬膜，另一個(gè)采用射頻（RF）濺射，可濺射金屬和氧化物靶材，制備金屬或氧化物膜.設(shè)備上安裝有薄膜測(cè)厚儀可以實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)薄膜的厚度。此設(shè)備可制作各種單層或多層薄膜，如鐵電、導(dǎo)電，合金，半導(dǎo)體，陶瓷，介電，光學(xué)，氧化物和PTFE薄膜等。而且設(shè)備體積較小操作方便，是一套理想的實(shí)驗(yàn)工具。

主

要

特

點(diǎn)

•體積小，操作簡(jiǎn)便
•真空腔室、真空泵組整機(jī)模塊化設(shè)計(jì)，控制電源為分體式設(shè)計(jì)，可根據(jù)用戶實(shí)際需要調(diào)整購(gòu)買需求。
•可根據(jù)用戶實(shí)際需要選擇電源，可以一個(gè)電源控制多個(gè)靶槍，也可多個(gè)電源單一控制靶槍，購(gòu)買前請(qǐng)聯(lián)系我公司銷售。

 基

本

參

數(shù)

●輸入電源：220V AC 50/60Hz
●功率：＜2KW（包含真空泵）
●濺射電源：安裝有兩個(gè)濺射電源：
●直流（DC）電源：500W，針對(duì)于制作金屬膜
●射頻（RF）電源：300W，可制作氧化物和金屬膜

真空腔體：

●真空腔體：φ300 mm  x 300 mm H，采用不銹鋼制作
●觀察窗口：φ100 mm
●腔體打開方式采用上頂開，使得換靶更加容易

氣體流量控制器：

●儀器內(nèi)部安裝有2個(gè)質(zhì)量流量計(jì)，量程為：0-100sccm
●氣體流量設(shè)置可以在6英寸的觸摸屏上進(jìn)行操作
●此系統(tǒng)運(yùn)行需要Ar氣，并且氣瓶上安裝有減壓閥（設(shè)備中不包含）

真空系統(tǒng)：

●配有一套GZK-103D分子泵系統(tǒng)（德國(guó)制作）
●標(biāo)準(zhǔn)5E-5mbar 極限7.4E-6mbar（僅供參考，詳情請(qǐng)點(diǎn)擊）

薄膜測(cè)厚儀（可選）：

●一個(gè)精密的石英振動(dòng)薄膜測(cè)厚儀安裝在儀器上，可實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)薄膜的厚度，分辨率為0.10 Å
●LED顯示屏顯示，同時(shí)也輸入所制作薄膜的相關(guān)數(shù)據(jù)

產(chǎn)品尺寸：L 1300mm× W 660mm× H 1200mm

凈重：160 kg

磁控濺射頭：

●儀器中安裝有2個(gè)2英寸磁控濺射頭，而且都帶有水冷夾層
●一個(gè)濺射頭與射頻電源相連接，主要是濺射絕緣性靶材
●另一個(gè)濺射頭與直流電源相連接，主要濺射導(dǎo)電性靶材
●靶材尺寸要求：直徑為50mm,厚度0.1-5mm（因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同）
●可以單獨(dú)訂購(gòu)RF連接線作為備用
●設(shè)備包含一臺(tái)水冷機(jī)，用于靶頭冷卻

載樣臺(tái)：

●載樣臺(tái)尺寸：φ140mm（最大可放置4"的基底）
●載樣臺(tái)可以旋轉(zhuǎn)，其速度為：1 - 20 rpm （可調(diào)）
●載樣臺(tái)最高可加熱溫度為500℃