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            雙靶磁控濺射儀
            簡要描述:

            VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發的一款高真空鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀配備有兩個靶槍,一個弱磁靶用于非導電材料的濺射鍍膜,一個強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比,且具有體積小便于操作的優點,且可使用的材料范圍廣

            • 產品型號:VTC-600-2HD
            • 廠商性質:代理商
            • 更新時間:2025-03-13
            • 訪  問  量:3081

            詳細介紹

            品牌其他品牌應用領域醫療衛生,環保,化工,生物產業,電子/電池
                雙靶磁控濺射儀主要特點:

                1、配置兩個靶槍,一個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,一個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。

                2、可制備多種薄膜,應用廣泛。

                3、體積小,操作簡便。

                技術參數:

            產品名稱 VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀
            產品型號 VTC-600-2HD
            安裝條件 本設備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。
            1、水:設備配有自循環冷卻水機(加注純凈水或者去離子水)
            2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地
            3、氣:設備腔室內需充注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(自帶Ø6mm雙卡套接頭)及減壓閥
            4、工作臺:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上
            5、通風裝置:需要
            主要參數 1、電源電壓:220V  50Hz
            2、功率:<2KW(不含真空泵)
            3、極限真空度:9.0×10-4Pa
            4、樣品臺加熱溫度:RT-500℃,精度±1℃(可根據實際需要提升溫度)
            5、靶槍數量:2個(可選配其他數量)
            6、靶槍冷卻方式:水冷
            7、靶材尺寸:Ø2″,厚度0.1-5mm(因靶材材質不同厚度有所不同)
            8、直流濺射功率:500W;射頻濺射功率:300W。(靶電源種類可選,可選擇兩個直流電源,也可選擇兩個射頻電源,或選則一個直流一個射頻電源)
            9、載樣臺:Ø140mm,可根據客戶需求選配加裝偏壓功能,以實現更高質量的鍍膜。
            10、載樣臺轉速:1rpm-20rpm內可調
            11、工作氣體:Ar等惰性氣體
            12、進氣氣路:質量流量計控制2路進氣,一路為100SCCM,另一路為200SCCM。
            產品規格

            1、主機尺寸:500mm×560mm×660mm
            2、整機尺寸:1300mm×660mm×1200mm
            3、真空室規格:φ300×300mm
            4、重量:160kg

            標準配件 1直流電源控制系統1套
            2射頻電源控制系統1套
            3膜厚監測儀系統1套
            4分子泵(德國進口)1臺
            5冷水機1臺
            6冷卻水管(Ø6mm)4根
            可選配件 金、銦、銀、鉑等各種靶材

             


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