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            雙靶磁控濺射儀
            簡要描述:

            VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發的一款高真空鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀配備有兩個靶槍,一個弱磁靶用于非導電材料的濺射鍍膜,一個強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比,且具有體積小便于操作的優點,

            • 產品型號:VTC-600-2HD-1000
            • 廠商性質:代理商
            • 更新時間:2025-03-13
            • 訪  問  量:5355

            詳細介紹

            品牌其他品牌應用領域環保,化工,生物產業,電子/電池,道路/軌道/船舶
                雙靶磁控濺射儀主要特點:

                1、配置兩個靶槍,一個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,一個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。

                2、可制備多種薄膜,應用廣泛。

                3、體積小,操作簡便。

                技術參數:

            產品名稱 VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀
            產品型號 VTC-600-1HD
            安裝條件 本設備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。
            1、水:設備配有自循環冷卻水機(加注純凈水或者去離子水)
            2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地
            3、氣:設備腔室內需充注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(自帶Ø6mm雙卡套接頭)及減壓閥
            4、工作臺:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上
            5、通風裝置:需要
            主要參數 1、輸入電源:220V/50Hz
            2、濺射靶數量:2
            3、靶槍冷卻方式:水冷
            4、極限真空度:7.4E-5pa
            5、真空室規格:Φ300×330 mm
            6、真空系統:VRD-16機械泵 FF-100/150渦輪分子泵
            7、恢復真空:系統從大氣抽至5.0E-3pa≤30 min(系統短時間暴露大氣)
            8、充氣系統:2路質量流量計(1路氬氣100scc、2路氬氣200scc)特殊氣體可定制
            9、濺射靶規格:Φ2",厚度0.1-5mm(因靶材材質不同厚度有所不同)
            10、樣品臺:Φ140mm/可旋轉(1~20rpm)/可加熱(室溫~1000℃)
            產品規格 主機尺寸:寬900mm×深650mm×高1100mm

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