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GSL-1200X-H8管式爐擁有三個獨立控制的加熱區，爐管材料為SS310不銹鋼，Z高工作溫度為800℃。此款管式爐專門設計為樣品在流動的氫氣氣氛或高真空環境下（Z高真空度可達10E-5 tor）對材料進行熱處理。此管式爐的密封采用高真空CF法蘭，并配有自動點火器和氫氣探測器，使得實驗地安全。
OTF-1200X-II-HG是一款雙溫區濕度可控氫氣熱處理爐，此設備帶有兩通道氣體控制器，氣液混合罐，露點儀和氫氣探測器，此設備專門設置對材料進行濕氫處理，以達到材料表面部分氧化，同時也進行各種CVD實驗。精密露點儀測量精度可以達到 +/-1.5%RH。若有實驗中發生氫氣微露現象（氫氣爆炸點的10%），3M公司的氫氣探測器將發生報警信號，使整個實驗在安全的環境下進行。
OTF-1200X-RTP-II-5是一款快速熱處理爐，其爐腔體是一直徑為11英寸的石英管。5英寸近距離蒸發鍍膜爐針對于熱蒸發或CSS（Close Spaced Sublimation）鍍膜實驗，其鍍膜面積可達到5“x5“。
OTF-1200X-4-RTP 是一款精巧型快速熱處理管式爐，配有4“ 石英管和真空法蘭， 它是專為半導體或太陽能電池基片（Z大達3“）的退火而設計，采用10KW紅外燈管加熱Z快升溫速度為 50°C/秒. 30 段溫度控制，精度為 +/-1°C. 計算機通過RS485口和控制軟件實時控制爐子和顯示溫度曲線 。
OTF-1200X-50-SL是一款CE認證的可滑動管式爐，配置外徑50x 1000mm石英管，工作溫度Z高達1200°C。爐底安裝一對滑軌，可滑動。加熱和冷卻速率Z大可達100°C/m。為取得Z快加熱，可以預先加熱爐子到設定的溫度，然后移動爐子到樣品位置。為獲得Z快冷卻，可在樣品加熱后移動爐子到另一端。加熱和冷卻速率在真空或者惰性氣體環境下可以達到15°C/s，是低成本快速熱處理的理想。
OTF-1200X-4-VTQ是立式可開啟真空管式淬火爐，石英管直徑100mm，配有一個密封的液體容器用于樣品淬火，溫度從Z高1200度到冰水或油，可用于研究材料相轉變和微結構性能。
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