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            • CVD氣相沉積
              

              
    
    
              CVD（ChemicalVaporDeposition，化學氣相沉積）是一種用于薄膜沉積的技術。它通過將氣態化學前驅體反應成固態沉積物，在基材表面形成薄膜。CVD廣泛應用于半導體制造、光伏設備、涂層和材料科學等領域。
              
    
              
    	
              更新日期：2025-03-13
              型號：
              廠商性質：代理商
              
    
              
    

              

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            • GSL-1700X-HVC1700°C二通道混氣高真空CVD系統
              

              
    
    
              GSL-1700X-HVC是一款CE認證的二通道高真空CVD系統，它是由二路質子混氣系統和高真空機組組度可達1600℃，極限真空度可達 to 10^-5 torr。混氣系統可以對兩種氣體進行精確的混氣，然后導
              
    
              
    	
              更新日期：2025-03-13
              型號：GSL-1700X-HVC
              廠商性質：代理商
              
    
              
    

              

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