這款微型PECVD系統，其腔體為 3*dia× 16“L的石英腔體，而且加熱圈在石英腔體內部對樣品進行加熱，此系統配有2通道混氣系統和雙旋機械泵。整套儀器都按放在一個移動架上，以便于實驗操作。等離子腔體內部的最高溫度可以達到400℃，采用程序化控溫。此款小型廉價的PECVD系統對于薄膜生長和納米線的制作是一款很好的選擇。

OTF-1200X-III-R5-PECVD是一款1200℃等離子增強化學氣相沉積三溫區回轉管式爐系統（R-PECVD），等離子增強系統的引入可在相對較低的溫度下實現粉末表面的包覆復合、核殼結構制備等工藝過程。自動進出料系統可實現連續生產，可保證在氣氛保護環境下進行粉體的進給和收集，包含射頻電源（帶自動匹配功能）、四通道質子流量計控制系統及真空泵系統，可由PLC觸摸屏或PC電腦控制，使用方便快捷。

OTF-1500X-III-4CV-PE-SL是一款三溫區1500℃的PECVD管式爐系統，該設備由射頻電源、1500℃三溫區管式爐、多通道質子混氣系統和真空系統組成。此款PECVD系統可廣泛應用于生長納米線、石墨烯及薄膜材料領域。

OTF-1200X-S-II-R-4CV-PE是一款1200℃PECVD等離子體增強氣相沉積由射頻電源、雙溫區管式爐、4通道質子流量計控制系統、性能優異的真空泵及水冷機組成。此套完整的設備系統特別適合用于無機復合粉末的熱處理以及粉未表面的改性處理工藝中（如：粉體摻雜（空穴、間隙原子）、表面改性、表面包覆及制備鋰離子電池陰極粉末的導電涂層等）。

OTF-1200X-50-1I-4CV-PE-MSL是一款雙溫區的PECVD管式爐系統，組成部分為500W的射頻發生器、滑動速度可控的雙溫區滑軌爐，預熱爐（作用為使固體原料蒸發）和德國進口的無油泵。此款PECVD對于生長納米線或用CVD方法來制作各種薄膜是一款新的探索工具。

OTF-1200X-PESDFG-50是一款雙爐體滑動的PECVD系統，連接循環手套箱。此款設備中石英爐管與循環手套箱連接，可利用CVD方法，將樣品處理后直接移入到氣氛保護環境下的手套箱中。爐體采用滑動式，可在實驗室中對樣品進行快速加熱和快速冷卻。此款儀器特別適合新一代納米材料和二維晶體材料的探索研究。